简介：

中芯启恒SU-8 2000/3000系列光刻胶是负性光刻胶，采用环戊酮溶剂配制而成，在超厚度胶膜涂布工艺中，图案化的结构有较好的稳定性和高分辨率，其膜厚范围比任何其他市售光刻胶更广泛，单次旋涂工艺胶膜厚度可选0.5-300um范围，可根据需要进行多次旋涂，从而获得更厚的胶膜。自2019年推出后，受到了同行业客户的青睐，在MEMS微加工领域占据越来越多的市场份额。

在微流控领域，SU-8系列光刻胶主要用于在硅片衬底上加工SU-8胶的凸起/凹陷结构，作为浇筑PDMS微流控芯片的母版。此外SU-8系列光刻胶也可直接在单晶硅、玻璃、氮化硅等基材表面加工SU-8光刻胶结构。

中芯启恒SU-8 2000/3000系列光刻胶根据粘度不同，划分为以下型号： SU-8 2000.5、SU-8 2002、SU-8 2005 、SU-8 2010、SU-8 2015、SU-8 2025、SU-8 2050、SU-8 2075、SU-8 2100、SU-8 2150；SU-8 3010、SU-8 3025、SU-8 3050。

备注：不同膜厚可通过调节匀胶机转速获得，因客户实验设备不同，实际参数需进行微调。建议购买配套的显影液，一般需要购买的显影液与光刻胶的体积比为4:1或者8:1，显影液的详细信息请咨询客服人员。

应用案例：

（1）下图所示为使用SU-8光刻胶在硅片衬底上加工的用于PDMS微流控芯片浇筑的母版。

（2）下图所示是微柱阵列结构实物图

匀胶曲线

图1 SU-8 2000.5、2002 匀胶曲线

图2 SU-8 2005、2010、2015 匀胶曲线

图3 SU-8 2025、2050、2075 匀胶曲线

图4 SU-8 2100、2150 匀胶曲线

图5 SU-8 3010、3025、3050 匀胶曲线